多光谱成像窗口

多光谱成像窗口

多光谱成像窗口提供高透射率、出色的波前质量、低散射和绝佳的环境耐久性。这些窗口几乎可以采用任何基材材料进行定制，包括熔融石英、硅、锗、硒化锌、硫化锌、CaF2、MgF2、Cleartran和AMTIR。  

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在按照行业最高的性能和质量标准进行光学制造和抛光各种材料和几何形状方面，埃赛力达的能力举世闻名。借助包括主轴抛光、CNC抛光、金刚石车削和连续抛光在内的一系列工艺，埃赛力达拥有满足您最具挑战性的成像窗口需求的专业知识。

典型的光学涂层元件性能：

锗

波长平均T平均R绝对T绝对R
8.0-12.0 μm≥97%≤0.5%≥93%≤1%
7.5-13.5 μm≥96%≤1%≥85%≤4%

硅

波长平均T平均R绝对T绝对R
3.0-5.0 μm≥98%≤0.5%≥94%≤1.5%

ZnSe

波长平均T平均R绝对T绝对R
8.0-12.0 μm≥98%≤0.5%≥96%≤1%
7.5-13.5 μm≥97%≤0.5%≥93%≤1.5%
2.0-13.0 μm≥93%≤2.5%≥83%≤5.0%
7.5-14.0 μm≥92%≤2.5%≥80%≤6.0%

尺寸最大为330mm

典型环境测试

典型环境测试
附着力 MIL-C-48497A para. 4.5.3.1胶带测试
湿度 MIL-C-48497A para. 4.5.3.224hrs. 49 deg. C 95-100% 相对湿度
磨损 MIL-C-48497A para. 4.5.3.3中等，50次击打，采用粗棉布

典型的光学涂层元件性能：

锗

波长平均T平均R绝对T绝对R
8.0-12.0 μm≥97%≤0.5%≥93%≤1%
7.5-13.5 μm≥96%≤1%≥85%≤4%

硅

波长平均T平均R绝对T绝对R
3.0-5.0 μm≥98%≤0.5%≥94%≤1.5%

ZnSe

波长平均T平均R绝对T绝对R
8.0-12.0 μm≥98%≤0.5%≥96%≤1%
7.5-13.5 μm≥97%≤0.5%≥93%≤1.5%
2.0-13.0 μm≥93%≤2.5%≥83%≤5.0%
7.5-14.0 μm≥92%≤2.5%≥80%≤6.0%

尺寸最大为330mm

典型环境测试

典型环境测试
附着力 MIL-C-48497A para. 4.5.3.1胶带测试
湿度 MIL-C-48497A para. 4.5.3.224hrs. 49 deg. C 95-100% 相对湿度
磨损 MIL-C-48497A para. 4.5.3.3中等，50次击打，采用粗棉布

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