超低释气法拉第隔离器，XLO系列
LINOS®超低释气法拉第隔离器经过专门设计，可以显著减少敏感环境中的污染，使激光系统长时间保持洁净。其独特的无胶结构最大限度降低了潜在的挥发性有机化合物污染，与我们的低释气版本相比，释气量减少了一半，与标准隔离器相比最多减少了50倍。这使得该产品成为半导体制造、太空应用及高真空环境等严苛场景中的理想选择。
LINOS超低释气法拉第隔离器采用洁净设计，可保护敏感设备，从而提升系统性能并延长使用寿命。我们的隔离器提供卓越的光学性能，在指定波长下可实现≥30 dB的隔离度以及超过90%的透射率，确保了最佳的信号完整性和对激光器的有效保护。这些耐用的法拉第隔离器采用光学接触偏振片制造，具备高损伤阈值和长期光学稳定性；采用稀土磁铁以确保隔离性能稳定可靠。此外，该产品在设计上具备即用型灵活性，便于操作被阻挡光束，并配有安装支架，可轻松集成到各种激光系统中，还能根据需求提供定制化波长和规格。
| 产品 | FI-1030-3SC XLO | FI-1060-3SC XLO |
| 孔径 | 2.9 mm | 2.9 mm |
| 隔离度 (dB) | > 33 | > 33 |
| 设计波长下的透射率 | ≥ 95.0 % | ≥ 95.0 % |
| 边界波长处的透射率 | ≥ 90.0 % | ≥ 90.0 % |
| 波长范围 | 1025.0 - 1064.0 nm | 1030.0 - 1090.0 nm |
| 底板尺寸（长×宽×高） | 63x42.9x72.2 mm | 63x42.9x72.2 mm |
| 损伤阈值 @ 1.2皮秒脉冲 (J/cm²) | 0.6 @ 1030.0 nm | 0.6 @ 1060.0 nm |
| 损伤阈值 @ 8.0纳秒脉冲 (J/cm²) | 8.2 @ 1030.0 nm | 8.5 @ 1060.0 nm |
| 零件号 | 845110100277 | 845110100289 |
超低释气性能 - 与标准隔离器相比，挥发性有机化合物（VOC）排放量最多可减少50倍，显著降低敏感环境中光学污染的风险。
无胶专利设计 - 采用专利无粘合剂结构，减少颗粒产生和污染，延长系统寿命并提升可靠性。
高光学性能 - 在设计波长下提供 ≥30 dB的隔离度和 >90%的透射率，确保最佳信号完整性和激光保护。
耐用精密组件 - 配备光学接触偏振片，具备高损伤阈值和长期光学稳定性；采用稀土磁铁，实现稳定一致的隔离性能。
即用型灵活性 - 支持对被阻挡光束进行操作，并配备安装支架，便于轻松集成至各类激光系统。可根据需求提供定制化波长和规格。
| 产品 | FI-1030-3SC XLO | FI-1060-3SC XLO |
| 孔径 | 2.9 mm | 2.9 mm |
| 隔离度 (dB) | > 33 | > 33 |
| 设计波长下的透射率 | ≥ 95.0 % | ≥ 95.0 % |
| 边界波长处的透射率 | ≥ 90.0 % | ≥ 90.0 % |
| 波长范围 | 1025.0 - 1064.0 nm | 1030.0 - 1090.0 nm |
| 底板尺寸（长×宽×高） | 63x42.9x72.2 mm | 63x42.9x72.2 mm |
| 损伤阈值 @ 1.2皮秒脉冲 (J/cm²) | 0.6 @ 1030.0 nm | 0.6 @ 1060.0 nm |
| 损伤阈值 @ 8.0纳秒脉冲 (J/cm²) | 8.2 @ 1030.0 nm | 8.5 @ 1060.0 nm |
| 零件号 | 845110100277 | 845110100289 |
超低释气性能 - 与标准隔离器相比，挥发性有机化合物（VOC）排放量最多可减少50倍，显著降低敏感环境中光学污染的风险。
无胶专利设计 - 采用专利无粘合剂结构，减少颗粒产生和污染，延长系统寿命并提升可靠性。
高光学性能 - 在设计波长下提供 ≥30 dB的隔离度和 >90%的透射率，确保最佳信号完整性和激光保护。
耐用精密组件 - 配备光学接触偏振片，具备高损伤阈值和长期光学稳定性；采用稀土磁铁，实现稳定一致的隔离性能。
即用型灵活性 - 支持对被阻挡光束进行操作，并配备安装支架，便于轻松集成至各类激光系统。可根据需求提供定制化波长和规格。